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玻璃镀膜 溅射气体与镀膜材料之间的化学反应

发布时间:2016/7/1

据溅射过程中,溅射气体与镀膜材料之间是否发生化学反应,又分为非反应溅射和反应溅射。非反应溅射过程必须使用惰性气体(一般为Ar气),靶材也要具有足够的导电性。设备结,主要包括真空室、溅射气体人口、真空系统、溅射装置、用于起辉的电源(200〜5000V),以及基片架。气体放电在溅射镀膜中具有两个功能,一是产生离子,二是将镀膜材料从靶材表面刻蚀下来。溅射期间,在靶表面上、放电气体中和基片上发生的每个过程都非常复杂。在靶材附近的暗区电压作用下,带正电的氩离子被加速并轰击靶材,通过物理碰撞将金属颗粒从靶表面蚀刻下来,大约99%的金属粒子是电中性的,只有不到1%的粒子带有正的或负的电荷;同时靶表面会反弹出中性的Ar原子,气体放电所需的电子e- 也会被释放出来。这些粒子会与阴极前的气体放电过程产生的粒子相碰撞,所以一部分溅射出来的金属粒子的速度会减少,减速后的粒子会扩散回靶面并在那离凝结成一层薄膜、氩气原子(Ar0)和电子(e-)与玻璃表面或膜层的碰撞、粒子对基片表面和膜层的蚀刻。

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