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玻璃镀膜工艺 真空溅射镀膜法

发布时间:2016/7/1

利用辉光放电产生的荷能粒子(一般为气体正离子)轰击物体,从而引起物体表面原子从母体中逸出的现象,称为溅射。

当逐渐提高两个电极 之间的电压时,则两极之间就会产生放电现 象,在汤生放电、电晕放电之后,气体会突然 发生放电击穿现象,这时的气体(称之为等离 子体)开始具备了相当的导电能力,由于导电 粒子的数目大量增加,离子碰撞过程伴随的 能量转移也足够的大,因此放电气体会发出明显的辉光(正常辉光放电),当辉光放电区域充满两极之间的整个空间时,即为异常辉光放电,此时放电电压又开始上升;随着电流的继续增加,放电电压将会再次突然大幅度下降,表明等离子体自身的导电能力再次迅速提高,气体开始进入弧光放电阶段。溅射镀膜利用的是异常辉光放电形式,因为它可以提供面积较大、分布较均匀的等离子体,有利于实现大面积的均匀溅射和薄膜沉积。

与真空蒸镀法相比,溅射镀膜的特点是:

①无论何种膜层材料,只要能做成靶材,就可实现溅射。

②溅射所获得的薄膜与基片结合良好。

③溅射所获得的薄膜纯度高,致密性好。

④溅射工艺重复性好,膜厚可控制,同时可以在大面积基片上获得厚度均匀的薄膜。溅射镀膜的缺点是沉积速度较真空蒸发的低,因此基片会受到等离子体的辐照等作用而产生温升。


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